凝聚态物理 > 材料科学
[提交于 2024年11月18日
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标题: 在SiC(0001)上的单层和(扭曲)多层石墨烯的外延生长
标题: Epitaxial growth of mono- and (twisted) multilayer graphene on SiC(0001)
摘要: 为了充分利用石墨烯或其他二维材料的扭曲双层结构,精确控制堆叠层之间的扭转角度至关重要,因为这一参数决定了异质结构的特性。 在此背景下,已报道了一种使用硼嗪作为表面活性分子在SiC(0001)表面上的生长方法,导致形成了高质量的外延石墨烯层,这些层以非常规方式取向,即与基底晶格对齐(G-$R0^\circ$)[Bocquet等人,Phys. Rev. Lett. 125, 106102 (2020)]。 由于G-$R0^\circ$层位于一个缓冲层上,也称为零层石墨烯(ZLG),该层相对于SiC基底旋转了$30^\circ$,并且仍然与其共价键合,因此将ZLG-$R30^\circ$与基底解耦可能导致高质量的扭曲双层石墨烯(tBLG)。 在这里,我们报告了在硼嗪气氛中退火过程中升高温度以实现ZLG-$R30^\circ$的解耦。 虽然这会将ZLG-$R30^\circ$转化为G-$R30^\circ$并从而产生tBLG,但高温下的生长过程不再自我限制,导致表面被不同厚度的石墨烯多层结构覆盖。 我们发现ZLG上有20%的tBLG覆盖率,而在其余表面上,tBLG则位于一个或多个额外的石墨烯层上。 为了仅实现tBLG的完全覆盖,可能通过用合适的原子进行插层等其他解耦方法会更有利。
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