凝聚态物理 > 材料科学
[提交于 2025年7月7日
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标题: 应变诱导的外延Ni-Mn-Ga薄膜马氏体相变及其与光学和磁光性质的相关性
标题: Stress-induced Martensitic transformation in epitaxial Ni-Mn-Ga thin films and its correlation to optical and magneto-optical properties
摘要: 薄的外延Ni-Mn-Ga薄膜,厚度范围从8到160 nm,在0.7-6.4 eV的光谱范围内研究了其光学和磁光性质。 这些薄膜通过直流磁控溅射沉积在MgO基底上,基底上有应力中介的Cr缓冲层。 结构和磁性表征显示,厚度大于80 nm的薄膜发生了应力诱导的马氏体相变,而较薄的薄膜则保持由基底约束变形的奥氏体结构。 在马氏体样品中观察到了X型和Y型孪晶畴。 磁光法拉第效应光谱随着薄膜厚度的变化表现出显著的演化,展示了Ni-Mn-Ga的电子结构变化。 光谱椭偏仪和磁光法拉第光谱的结合使得能够推导出所研究样品的全介电张量的光谱依赖性。 三种磁光跃迁被拟合到非对角介电张量的光谱中,显示出与面内矫顽力的强相关性。 观察到的相关性突显了基底诱导应变对Ni-Mn-Ga薄膜的影响,并提供了与马氏体相变相关的电子结构变化的见解。
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