凝聚态物理 > 材料科学
[提交于 2024年12月31日
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标题: 铬杂质在$β$-Ga$_2$O$_3$中的表征
标题: Characterization of Chromium Impurities in $β$-Ga$_2$O$_3$
摘要: 铬是一种常见的过渡金属杂质,在晶体生长过程中很容易被掺入。它或许最广为人知的是在掺铬的氧化铝(Al$_2$O$_3$)中激发了694.3纳米(1.786电子伏特)的发射,这一特性被用于红宝石激光器。此外,铬还被发现在单斜晶系氧化镓中,这是一种被研究用于功率电子学的宽禁带半导体。在这项工作中,我们通过理论和实验技术全面表征了铬在氧化镓(Ga$_2$O$_3$)中的行为。采用浮区法生长的$\beta$-Ga$_2$O$_3$样品显示出尖锐的光致发光信号,类似于红宝石。我们从头计算了铬形成的能量学,证明铬倾向于以中性杂质的形式占据八面体位置。铬具有四重基态自旋,并且在接近1.8电子伏特处有一个零声子线的内部跃迁。通过比较计算和实验测量的发光线型函数,我们阐明了与声子耦合的作用,并揭示了超出弗兰克-康登近似之外的特征。 强发射与小 Huang-Rhys 因子(0.05)以及具有技术相关性的宿主材料相结合,使得 Cr 在 Ga$_2$O$_3$中成为一种有吸引力的量子缺陷。
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