凝聚态物理 > 强关联电子
[提交于 2024年12月19日
]
标题: 铁磁双层结构界面处的层间磁耦合微观研究
标题: Microscopic study of interlayer magnetic coupling across the interface in antiferromagnetic bilayers
摘要: 在反铁磁双层结构 AF1/AF2 中,低$T_{N}$反铁磁体的 Neel 温度 ($T_N$) 的增强,其中 AF1 的$T_N$大于 AF2(例如 CoO 在 CoO/NiO 或 FeO 在 FeO/CoO 中的$T_{N}$增强),是一个备受关注的问题。 在这些双层结构中,一个基本问题需要回答:界面耦合是短程的还是长程的,从而介导 AF1 层对 AF2 层磁性性质的影响? 为了理解界面处磁耦合的系统性,我们使用电子-空穴对称的一带 Hubbard 模型在半满填充下,采用半经典 Monte Carlo 方法研究反铁磁双层结构的平面分辨磁输运特性。 在我们的模型哈密顿量计算中,我们将库仑排斥$U_{1} = 8$设置为模拟高$T_{N}$AF1 层,而我们使用$U_{2}$=$2\times U_{1}$来模拟低$T_{N}$AF2 层。 我们的计算表明,当其厚度较小时,低$T_{N}$反铁磁体的$T_{N}$显著增强,类似于实验结果,导致双层系统的单一磁性转变温度。 这些发现得到了温度依赖比热中的单峰的良好支持。 然而,对于较大的厚度,低$T_{N}$反铁磁体的$T_{N}$趋近于其体材料值,并且组成反铁磁层在两个不同的温度下反铁磁对齐,在比热数据中观察到两个极大值。 我们的计算还表明,磁矩的离域性基本上局限于界面附近,这表明邻近效应的短程性质。 我们得到的结果与实验观察结果一致。 如果使用$U_{1} = 8$和$U_{2}$=$0.5\times U_{1}$所会发生的变化的详细讨论也将被涉及。
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